Elektronenmikroskopie Labor

Was ist Rasterelektronenmikroskopie?

Bei der Rasterelektronenmikroskopie tastet (rastert) ein Elektronenstrahl die Oberfläche einer Probe. Durch die Wechselwirkungen zwischen den Elektronen und dem Objekt entsteht ein Bild. Im Gegensatz zu lichtmikroskopischen Aufnahmen haben REM Bilder eine weit höhere Schärfentiefe und erlauben stärkere Vergrößerungen: während in der Lichtmikroskopie etwa 2 000 fache Vergrößerungen erreicht werden können, können REMs bis zu einer Million-fach vergrößern.

Der Elektronenstrahl muss in einem Hochvakuum erzeugt werden. Daher muss die untersucht Probe normalerweise vakuumstabil sein, das heißt, sie darf kein Wasser mehr enthalten. Dies wird durch kritisch-Punkt-Trocknung erreicht. Ein weiteres Problem stellen elektrische Aufladungen dar, die entstehen, wenn nicht-leitende Materialien untersucht werden. Zu deren Vermeidung werden die Proben vorher mit einer hauchdünnen Edelmetallschicht (meist Gold) versehen (sputter coating).

Welche Ausrüstung ist am ZFMK vorhanden?

Das ZFMK verfügt über ein Zeiss Gemini Sigma 300 VP Elektronenmikroskop. Dabei handelt es sich um ein sogenannten environmental scanning electron microscope (ESEM), bei dem sich nur der Bereich, in dem der Elektronenstrahl erzeugt wird in einem Hochvakuum befindet während die Probenkammer und der Detektor in Niedervakuum befinden. Daher können auch nicht-vakuumstabile bzw. nicht vergoldete Proben (Museumsmaterial) untersucht werden.  

Zum Vorbereiten der Proben stehen ein Leica EM CPD300 Kritisch-Punkt Trockner und ein Cressington 108Auto sputter coater zur Verfügung.

Wofür wird das Rasterelektronenmikroskop am ZFMK eingesetzt?

Es wird zur Dokumentation und Beschreibung benutzt. Im Gegensatz zu Lichtmikroskopie können weit höhere Vergrößerungen erreicht werden, was z.B. die Untersuchung der Ultrastruktur erlaubt.